P02100 - SEMI P21 - Guidelines for Precision and Accuracy Expression for Mask Writing Equipment Revision:SEMI P21-92 (Reapproved 0703) - Inactive SEMI E148-0309E (editorial revision)

SEMI E148-0309E (editorial revision)

装置のユーザは，ユーザの入力に依存せずに装置性能をトラッキングし，ユーザによる不正な入力やタイムリーではない入力に起因する不正確さをなくす必要がある。ユーザ入力なしで装置性能をトラッキングすることは，運転のシナリオにおいて手動介入を最小限にする必要がある300 mmウェーハの工場では重要である。EPTは，ホストコンピュータがオペレータやホスト入力なしに自動的かつ一貫性のある方法で装置の性能をトラッキングするために必要な装置データを取得できるようにする概念，動作，メッセージサービスを定義する。

The specification only describes information that is static in nature (i

6-0813 (Withdrawn 0822) — Specification for Round 125 mm Diameter Polished Monocrystalline Gallium Arsenide Wafers

SEMI F68 — Test Method for Determining Purifier Efficiency

P02100 - SEMI P21 - Guidelines for Precision and Accuracy Expression for Mask Writing Equipment Revision:SEMI P21-92 (Reapproved 0703) - Inactive SEMI E148-0309E (editorial revision)This guideline was technically approved by the Global Micropatterning Committee and is the direct responsibility of the Japanese Micropatterning Committee. Current edition approved by the Japanese Regional Standards Committee on April 28, 2003. Initially available at www. semi. org June 2003; to be published July 2003. Originally published in 1992. NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain